二手 ULVAC Zi-1000 #293829724 待售

ULVAC Zi-1000溅射设备以极均匀的低压气体放电源提供卓越的薄膜质量和均匀性。该系统设计用于多种不同的应用，包括半导体器件生产、光学器件生产、材料研究和陶瓷薄膜沉积。该装置具有多种特性，使这台机器非常适合用于高端薄膜沉积工艺。Zi-1000具有双口袋双磁控管溅射源，可用于溅射导电材料和非导电材料。该源的设计目的是提供高达30 nm/min的薄膜沉积速率。ULVAC Zi-1000还具有获得专利的低压、多频直流磁控管源，以提高电离效率和沉积过程的均匀性。Zi-1000的机器人样机使基板从工具的腔室转移到固定装置上变得容易。这种样品操纵器还允许将多层连续沉积到基板上，而无需手动移除和更换。该资产的计算机控制真空计提供准确的读数，以确保一致的过程条件。该模型还具有自动真空压力控制器，可方便操作和精确控制腔室压力。ULVAC Zi-1000配备了集成的薄膜厚度监控器，该监控器从计算机控制的石英晶体振荡器中提取数据进行精确测量。此功能可确保沉积膜的可重复性和完整性。Zi-1000提供了许多其他功能,包括高精度沉积率控制设备、沉积室的自动清洁以及数字温度控制系统。该单元还设计了安全功能，以防止发生事故。ULVAC Zi-1000出色的性能和独特的功能,使其成为需要高度控制和精确的溅射过程的理想选择。机器的多功能性意味着可以用于生产不同材料的薄膜，具有极好的均匀性和可重复性，使其成为多种应用的完美选择。