二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9202971 待售
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ID: 9202971
优质的: 1996
Sputtering system
Includes:
Computer control
CTI CRYOGENICS 9600 Compressor
Wafer loader system electrical cabinet and controls
LEYBOLD LEYVAC LV80C Vacuum pump
ADVANCED ENERGY MDX-10X Power supply
BALZERS MSU200 Power supply
HUTTINGER PFG 1600 RF Generator
DAYTON 500 lbs
Capacity overhead hoist with pendant / Rail system
Pumps:
HV Pump LC: Cryo CTI 8F onboard, VAT 2 Point
HV Pump MC: Cryo CTI 8F onboard, VAT Stepless
Fore pump LC / MC: Dryvac 50B
Meissnertrap MC cooled with LN2
Heater:
LC: QUARTZ Heater 2.0 kW
MC: QUARTZ Heater 4.0 kW
Sputtering:
Sources: Planner management AK 517 DC
Power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle, 12 kW
Etch:
Sources: Matchbox
Power supply: PFG 1.6 kW and HUTTINGER
(12) Tooling substrates, 6"
Handling: TECSEM With notch finder
Input: 3x400 VAC (3L+N+PE), 60 Hz, 53 A
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502是一种高速率射频/直流溅射设备，用于将高精度薄膜层沉积在基板上。该系统利用射频和直流功率将目标材料溅射到类似电子轰击的大气中，利用平衡离子回旋共振（ICR）技术创造出有效的沉积速率。UNAXIS LLS 502具有600 kHz高频电源，配有150 W RF电源和150 kW直流电源，可方便、可调地沉积高纯度薄膜。BALZERS LLS 502有一个集成的精确控制单元，它提供了广泛的可变参数以及广泛的工艺模式，允许沉积各种薄膜。其先进的软件允许实时的过程监控，而其机械设计则允许几十年的可重复操作而无需维护。LLS 502具有先进的腔室设计,可精确控制高达600°C的工作温度,并具有广泛的工艺窗口,可提高金属和电介质的沉积速率。这使得研究人员能够利用不同的工艺参数来获得最佳的薄膜沉积。它还有一个全自动的气体溷合机，可以同时对个别气体进行累积控制。此外，UNAXIS/BALZERS LLS 502提供了一系列光学元件，为用户提供控制/监测能力，其中包括实时反射仪、自动光学显微镜、自动椭圆仪和测光能力。总体而言，UNAXIS LLS 502是一种可靠和精确的溅射工具，用于对沉积过程进行高度控制的高质量薄膜层的沉积。其精密的设计确保了可重复和精确的沉积过程，并提供卓越的工艺性能和优越的用户灵活性。
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