二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214650 待售
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已售出
ID: 9214650
优质的: 1996
Sputtering system
Environmental conditions:
Out of operation:
Temperature: 10-50°C
Relative humidity: 30-80%
During operation:
Temperature: 18-30°C
Relative humidity: 40-60%
Facilities requirement:
Argon-process: 0.5-1.0 Bar
CDA: 6-8 Bar / 87-116 PSI
N2 Vent: 1.5-2.5 Bar / 21.7-29.0 PSI
N2 Regen (Purge): 1.5-2.5 Bar / 21.7-36.3 PSI
PCW:
Inlet pressure: 4-7 Bar / 58-101 PSI
Outlet pressure: <0.5 Bar
Temperature: 15-25°C
(2) CTI On-Board 8F Cryo pumps
POLYCOLD (Meissener) PFC-400LT Chiller
Temperature range: -120°C to -150°C
Power supply: 415 V
Max full load amp: 8.00 A
PFEIFFER DUO 65 Mechanical pump
PFEIFFER DUO 035D Mechanical pump
(2) Pinnacle power supplies
Output power: 15 kW
IONTECH MPS-5001 Beam current controller
MSU 200 (A 250.1) Power distribution unit
Magnetron (Target-cathode): Ti, Al, Cu, GE, AU
Unit mass flow controller (UFC):
MFC 1: 50cc Ar
MFC 2: 20cc Ar
Chambers:
Load lock chamber (LC): Argon cleaning chamber
Main chamber (MC): Deposition chamber
Vacuum state:
Current MC base pressure: 1.70E-08
Current LC base pressure: 9.30E-08
Current MC ROR: 7.30E-07
Current LC ROR: 1.10E-07
Electrical power:
Supply voltage: 3 x 400 / 230 V (3L + N + PE)
Supply frequency: 50 Hz and 60 Hz
Main ground: <2 Ohm
1996 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS 502是为各种薄膜应用而设计的溅射设备。该系统具有直径5英寸的目标支架、6英寸的阴极和用于高效底物装卸的负载锁定单元。最大基板尺寸为6 "x 4.75"。该机以360瓦的最大等离子体功率运行，具有高均匀性和低等离子体不均匀性。锁载工具对压力、温度和速度进行连续监控，以进行精确的样品装卸。目标操作资产提供了高度精确的目标控制,并允许最大限度地利用目标。模型的PECVD模块提供了广泛的过程参数。它的加工室设有一个带光学可访问视口的单件式钟罩。它能够在广泛的中低温范围内保持精确的腔室温度、压力和气体。该设备还配备了能够处理薄膜和厚膜的溅射模块。它具有三区加工室、三英寸内径不锈钢圆柱形真空室、四区磁控管和三区快速停止运动系统。通过磁化装置可以达到溅射膜的均匀性和均匀性，磁化装置提供磁场轮廓控制，并允许均匀溅射尺寸不超过6英寸的基板。机器的过程控制具有基于Windows的操作员界面,旨在实现无缝刀具集成。它具有安全的远程访问资产,允许通过Internet连接从任何地方访问模型。该设备还具有强大的过程控制功能,包括批处理配方、多个过程配置文件和可变功率控制。总体而言，UNAXIS LLS 502是一种适用于各种薄膜应用的高精度溅射系统。它具有一个直径5英寸的目标支架，一个6英寸的阴极和一个负载锁定单元，用于高效的底物装卸。其PECVD、溅射和过程控制模块为一系列薄膜应用程序提供了广泛的处理功能。
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