二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9214750 待售

UNAXIS/BALZERS LLS 502是一种设计用于将薄膜沉积到基板上的高性能溅射设备。适用于多种薄膜材料的工业规模生产，可从一个或多个目标沉积薄膜。系统包括一个超高真空2 x 10-6毫巴的溅射室，温度范围150°C至350°C，等离子体与基板的最大工作距离为360mm。薄膜可以直接沉积在基板顶部或目标卡盘上。该单元还包括一个自动化的多区过程控制与手动和自动沉积配方。UNAXIS LLS 502由最大6kW功率的中频源供电，可提供稳定、均匀的沉积速率。它包括一个完整的疏散机器，包括一个无油机械干泵，一个用于预疏散的涡轮分子泵，四个扩散型泵和一组呼叫泵阀。该控制软件可确保精确的过程控制,包括阴极偏置电压、溅射气体压力和温度.它还包括一个配方编辑器,用户可以使用正确的参数配置定制流程。为确保可重复性,该工具配备了自动平面控制资产。BALZERS LLS 502可用于PVD（物理气相沉积）、磁控管溅射、离子束沉积、反应性溅射等多种膜沉积技术。适用于半导体器件、微电子器件、介电层、金属化层、ITO层、多层堆栈沉积、MEMS、光学显示器薄层、多目标多材料系统、磁光薄膜生产等多种应用。该模型是为可靠和可重复生产适合各种研究和工业应用的高质量薄膜而设计的。它是一种具有多种特性的多功能沉积设备，非常适合任何类型的薄膜沉积工艺。