二手 UNAXIS / BALZERS LLS 502 #9254074 待售

UNAXIS/BALZERS LLS 502是一种先进的离子溅射设备，用于沉积用于半导体、光学和医疗应用的薄膜。该系统为制造商提供了独特的优势,例如高均匀性、高沉积率以及与一系列基材的兼容性。UNAXIS LLS 502溅射装置包括一个射频电源、一个离子源和一个装有源目标、真空泵和一个观察/样品支架的腔室。RF电源用于为离子源供电，离子源由一个或多个磁控管溅射阴极与离子枪和激光耦合，用于离子束控制。该腔室有一个钨钨状的源保持目标和多个抽水口。视图/样本持有者有两个可索引的样本支持,以及用于查看沉积过程的窗口。离子源被用来製造一等离子体的氙气或其他反应性气体，被送入沉积室。离子源通过溅射轰击和离子萃取产生源材料的正离子。可调偏置电压允许精确控制离子电流密度和离子撞击基板的角度。TheView/Sample持有人在同时预热并暴露于溅射过程中时经历180°旋转。一个冷却的高效磁控管枪目标提供了一个大的溅射面积，允许更高的沉积速率同时保持均匀的薄膜沉积。BALZERS LLS 502设计用于容纳各种尺寸和材料的基板。底物几何会自动调整,并为每个单独的底物建立索引。它还提供了可调的沉积速率，从而能够精确控制沉积在基板上的材料。LLS 502溅射机为各种应用提供了多用途的薄膜沉积。其专门设计保证了薄膜沉积均匀，沉积速率高，与一系列底物的兼容性。这种先进的工具是半导体、光学和医疗行业制造商的可靠选择。