二手 UNAXIS / BALZERS LLS EVO #9167779 待售

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ID: 9167779
晶圆大小: 5"
优质的: 1998
Sputtering system, 5" (5) Targets: NiCr, CoNiFe, Cr, Ta, 46 NiFe Currently warehoused 1998 vintage.
UNAXIS/BALZERS LLS EVO是一种溷合溅射设备,其特点是用于生产薄膜的非感应耦合线性磁控管装置,结合了高直流的优点低频溅射技术。该系统还提供现场计量测量,以评估沉积质量。该机组有两个主要部件,一个大型线性磁控管单元和一个较小的线性磁控管电源。线性磁控管电源允许产生高度均匀的直流电源磁控管腔内的溅射场。另外,在电源中注入高功率低频脉冲,以促进等离子体中电离和材料迁移率的提高。这种安排允许较高的沉积速率,同时保持良好的均匀性和均匀性。线性磁控管单元装有6个溅射源,每个溅射源具有可变的输入功率,以及4个旋转的内联目标。该机器设计有目标之间的间隙,以方便胶片目标的变化。此外,磁控管室由不锈钢构成,以确保可靠的真空环境。此外,线性磁控管工作室连接到额外的端口,以允许在原位光学监测能力。UNAXIS LLS EVO的设计目的是保证大型基板的最高均匀性,并尽量减少沉积过程中的粒子和碎片问题。其有效的操作条件提高了蚀刻沉积比,提高了工艺产量。该工具还配备了先进的车载过程控制监测,能够实现准确的溅射性能和可靠的沉积环境。此外,资产还允许对氧化物退火和沉积循环等技术进行复杂的分析和优化。总体而言,BALZERS LLS EVO溅射模型为薄膜沉积和光电子研究提供了强大、可靠和高效的解决方桉。
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