二手 UNAXIS Clusterline 200 #9189483 待售

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ID: 9189483
优质的: 2000
Sputtering system Turbo pumps: TMH 521P (2) TMH 520 TMH 260 Brooks robot and arm-set PN: 201600-01R Brooks load lock-drive/controller PN: 003-9010-03 Turbo pumps and controllers: (3) TCP 380, DCU300 ARQ and magnet-system (Al-chamber) PN: ARQ 151 D31, MB300DR magnets Load-lock with cass system, 6" Transfer camber turbo pump Sputter etch chamber with turbo pump Sputter chamber Heated lamp Rotation magnets with turbo pump Magnetron has rotation magnets Sputtering of ALU and ALU nitride Dual arm robot Robot included Spare parts: O-Ring Metal rings Ceramic chamber Transport brackets 2000 vintage.
UNAXIS Clusterline 200是一种溅射设备,为各种基板,包括玻璃、陶瓷、塑料和金属基板提供精密的薄膜沉积技术。这一通用系统的设计是为了在大中型工作岗位上提供灵活性和生产。它提供了一种自动化的过程控制功能,在基板上产生均匀、高质量的薄膜沉积。Clusterline 200使用从基材的制备开始的高质量制造工艺。然后,基板在真空室中通过单元运输,在真空室中,UNAXIS磁控管源产生高度聚焦的能量束。当这些光束轰击基板时,它们导致粒子从源头溅射,在目标基板上形成薄膜。为确保取得最佳结果,自动流程控制功能会持续监控流程。UNAXIS Clusterline 200还提供了一个综合流程监测平台,确保可靠、高效和受控的工作流程。集成过程监视平台允许用户监视机器参数、诊断出现的任何问题并调整过程以获得最佳性能。此外,Clusterline 200以其先进的溅射技术提供卓越的性能。其先进的溅射技术使用创新的压力脉冲技术来限制产生的电离原子的数量。这有助于减少表面粗糙度和晶体生长,同时也允许薄层沉积在小而复杂的部分上。最后,UNAXIS Clusterline 200可以容纳各种基板温度和压力,以最大限度地提高工艺效率。这有助于最小化底物上的薄膜载荷并最小化残余应力。总之,Clusterline 200是一种功能强大的高性能溅射沉积工具,提供多功能性、精确度和强大的过程控制。其先进的工艺控制和尖端技术使其成为各种基板沉积的理想选择。
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