二手 UNAXIS Clusterline 200 #9273683 待售

看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。

UNAXIS Clusterline 200
已售出
ID: 9273683
晶圆大小: 4"
优质的: 2006
Sputtering system, 4" Chamber included 2006 vintage.
UNAXIS Clusterline 200是一种高性能溅射设备,为用户提供了一个用于涂覆多种材料的通用平台。该系统配备了两个独立的150毫米簇状盒式磁带,允许同时或在单独的基板上沉积不同的材料,而无需额外的重新加工。此外,该设备的300 mm x 300 mm负载锁定可实现高通量溅射过程。集群线200由于沉积率高、周期时间短,是许多薄膜应用的绝佳选择。该机组配备了强大的基于磁控管的电源,能够产生高达8千瓦的最大功率。对于溅射沉积,这种功率可以被精确精确的控制,允许均匀的涂层结果。此外,这两个盒式磁带还具有独特的平板式线性磁体设计,它扩散磁场,以实现沉积均匀性和径向均匀性。对于柔性沉积,机器配有模块化的加工室,一次最多可容纳四个溅射源。此设计允许用户在单个应用程序中在金属、陶瓷和复合材料之间进行切换。此外,该装置先进的屏蔽设计和脉冲DCMAG负载,控制溅射密度和最小化充电。该装置还为高速度溅射过程提供了先进的冷却工具。这种冷却资产包括两个独立的循环泵,在整个模型中提供高效的热管理和优越的温度和均匀性。此外,该设备的多区端移位电源通过为每个电源提供独立的可调电压来增强溅射均匀性。最后,UNAXIS Clusterline 200提供了先进的安全设计,包括屏蔽窗口、集成联锁以及自定义错误检测和报告。这些安全特性保证了设备的可靠性和安全运行的维护.总之,Clusterline 200提供了功能强大但用途广泛的溅射系统,非常适合需要快速沉积时间和卓越涂层质量的溅射应用。该机组提供了用于高速度溅射的先进冷却机、先进的屏蔽和磁铁设计,以及用于精确功率控制的强大的基于磁控管的电源。凭借其紧凑的尺寸和灵活的工艺室,用户可以在一个应用程序中实现对多种不同类型材料的均匀涂层效果。
还没有评论