二手 VARIAN 3180 #83197 待售
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ID: 83197
晶圆大小: 4"
Sputtering system, 4"
(2) Conmag targets
Mini quantum target
Pre-heat / Degas station
EUROTHERM 808 Backside wafer heater
Tiw station shielding to prevent particle contamination
Source isolation shielding to prevent particle contamination
Backside air system replaced with NUPRO iso valves and VCR connections
DC Power supply remote meter, digital
(2) Wafer cassettes, 4"
Standard VARIAN controller
VARIAN 919 IG Controller
FLUKE 1722A Process controller with SD card reader to replace floppy drive
AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD / KEYSIGHT 3438A Multimeter
MKS 250B Gas controller with MKS 248 valve assembly
(3) Gas systems with MKS MFC and 247 controller
VARIAN 880 Ion gauge controller
CTI CT-8 Cryo pump with compressor
VARIAN Cryo temperature monitor
LEYBOLD D-30 Mechanical pump
(3) ADVANCED ENERGY MDX DC Power supplies
PLASMATHERM 1000W RF Generator
Handling system with etcher, 4"
10 kW Power supply for Cu
5 kW Power supply for Tiw.
VARIAN 3180是一款多目标直流磁控管溅射设备，设计用于薄膜沉积、涂层、表面处理等多种应用。这种溅射系统利用磁场产生高能离子，用于在基板上沉积薄膜。该单元具有最先进的控制软件和硬件,使其能够提供精确且可重复的过程结果。3180具有集成的低维护性双质子离子源,与传统等离子体源相比具有多种优势,包括拥有和维护成本低、处理废物水平低,以及在更广泛的底物上更一致地沉积薄膜。影片的特点也保证了影片的高质量是一致的和可重复的。DC Magnetron Sputtering机还配备了集成的、坚固的高速率电源，使其比市面上的其他系统实现更高的沉积速率。这样可确保更快的流程周期时间和更高的流程可重复性。该工具提供各种为满足特定材料特性要求而设计的溅射目标。目标设计为耐用,并提供长期的可靠性和性能。该资产还具有可伸缩的碳和石墨阴极，这使得广泛的基材可以与模型一起使用，并提供优越的质量结果。VARIAN 3180还得到了VARIAN多目标直流磁控管溅射设备保修的支持,该保修可保护系统在正常使用过程中发生故障的任何部件。此保修的费用为象征性费用,该费用是根据设备的大小和功能级别计算得出的。3180的控制软件为用户定制提供了广泛的选项。用户可以自定义自己的机器设置，以控制目标大小、形状、位置和位置，以及当前和偏差设置。该软件还允许创建自定义配方和程序,从而使用户能够快速准确地复制其处理条件。总体而言,VARIAN 3180为用户提供了高质量、经济高效且可靠的溅射工具。其双质子离子源、坚固的高速率电源和广泛的溅射靶子使用户能够将材料薄膜沉积到种类繁多的基板上，具有极好的可重复性，而其控制软件和硬件为用户提供了广泛的用户控制选项。该资产以VARIAN多目标直流磁控管溅射模型保修为后盾,确保组件在正常运行期间受到任何损坏。
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