二手 VARIAN 3290 STQ #9293265 待售

製造商
VARIAN
模型
3290 STQ
ID: 9293265
晶圆大小: 6"
优质的: 2001
Sputtering system, 6" Compressor 8500, 3 Phase, 208 V CTI On-Board 8 Cryo pump VARIAN TV-301 Molecular pump VARIAN TV-81-T Molecular pump (2) PTS03003UNIV Fast pumps Water cooler: WW /50/S/DM (2) VPW2870M5 DC Power supplies VPW2870B5 DC Power supply 2001 vintage.
VARIAN 3290 STQ是为薄膜和多层的持久可靠沉积而设计的溅射设备。该系统提供出色的过程重复性和均匀性,以满足严格的控制要求,具有非凡的稳定性。它提供了具有三个功率级别的高级脉冲电源单元,可提供一定范围的电压、电流和脉冲频率,以实现最佳的溅射性能。该机进一步配备了两个大体积目标组件和两个平面静电夹具,用于安全、精确的样品处理。VARIAN 3290STQ利用先进的过程控制工具提供精确和可重复的溅射速率,而无需手动调整。该控制资产提供直观的软件来控制过程参数,如目标功率和基板偏差。大型目标允许对5英寸宽的层进行高效溅射,并能够为趋势和均匀性控制不断改变功率。该型号还与广泛的材料完全兼容,包括电介质和导体,并设有防止背蚀和目标失控的保护设备。3290 STQ溅射系统可容纳多种基材形状和尺寸,还包括原位溅射蚀刻模式。该装置的特点是基板装卸时间快,腔室清洁性好,抽水时间短。此外,该机器还包括一个自动化的水蒸气感应工具,以提供清洁、无断裂的薄膜结构和可用于氧气清洁和蚀刻应用的通用可旋转远程等离子体源。该资产还具有低负载容量模型,是磁性介质应用或高性能薄膜沉积的理想选择。总体而言,3290STQ是一种先进的自动溅射沉积设备,旨在提供精确和可重复的薄膜结果。该系统采用直观的过程控制软件和高效的大容量目标组件,确保了最佳的溅射性能,并提供了卓越的腔室清洁度和快速的基板加载时间。该单元还包括用于氧气清洗蚀刻应用的通用可旋转远程等离子体源,以及适合更苛刻应用的低负荷容量机器。
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