二手 VARIAN 3290 #9075492 待售
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ID: 9075492
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
(3) Target assemblies: Conmag II
Station 1: Heated etch with AE RF-10 power supplies
Station 2: Heater table with conmag II
Station 3: Heater table with conmag II
Station 4: Heater table with conmag II
(4) Temperature controllers: Eurotherm 818
Controller: Fluke 1722A modified with flash drive and floppy drive
Multimeter: HP 3438A
Ferrofluidic transfer plate feedthru grade
(3) Ferrofluidic shutter feedtrhu upgrades
Ion gauge controller: Varian 880
Remote power supply panel
Digital readout
Etch matching unit controller with digital readout meters
RF RWD and REFL remote meter panel
Cryo pump: CTI CT-8 with SC compressor
Dry scroll mechanical pump: no
Power supplies:
Target 1: Inner 2.5kW, outer 12kW
Target 2: Inner 2.5kW, outer 12kW
Target 3: Inner 2.5kW, outer 12kW
Currently warehoused
1989 vintage.
VARIAN 3290溅射系统是一种用于薄膜沉积工艺的高性能设备。其主要目的是将金属、氧化物和半导体的薄膜沉积在一系列用于各种应用的基板上。3290采用高水平的工艺控制和大范围的能力，生产用于集成电路、平板显示器、MEMS和太阳能电池应用的优质薄膜。它通过三个截然不同的参数实现了这一点：阴极、可调电盘和可调通量源。阴极是要沉积在基板上的材料的来源。这通常是一根导线，如铝、钯或金，但其他惰性材料如铬也可能被利用。电线溅射到基板上，可以放在可调板上。可调板可以控制基板的角度和在基板上均匀沉积的旋转。可调通量源提供均匀的屏蔽，以防止任何可能破坏沉积过程的离子。通量源也提供了一定程度的背景中和，通过提供电子的压板。VARIAN 3290还具有广泛的可自定义沉积参数，允许用户以各种厚度沉积多种材料。这些参数在选择沉积速度、电压、基体温度和气体流量方面具有很大的灵活性。3290溅射系统可靠高效，提供卓越的胶片质量，具有较高的重复性和重复性。其广泛的功能和过程参数为用户提供了产生所需结果所需的控制。其用户友好的界面和复杂的设置协议使其成为任何薄膜沉积工艺的理想选择。
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