二手 VARIAN 3290 #9154648 待售
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已售出
ID: 9154648
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
Entity target configuration:
Process station #1: HARD ETCH
Process station #2: ALSI
Process station #3: ALSI
Process station #4: ALSI
Process station cathode configuration:
Station #1: Etch
Station #2: Con-Mag 2
Station #3: Con-Mag 2
Station #4: Con-Mag 2
Heater configuration:
Heater type (All Station): DC BIAS
Heater controller (All Station): (3) Eurotherm 808, (1) Eurotherm 3508
Power supply configuration:
RF Gen. station #1: RF-10S (1KW max)
Inner PSU station #2: 2.5 KW
Outer PSU station #2: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #3: 2.5 KW
Outer PSU station #3: AE PINNACLE 12 KW
Inner PSU station #4: 2.5 KW
Outer PSU station #4: AE PINNACLE 12 KW
System vacuum configuration:
Compressor: Model 8150
8R Cryo pump: Yes
Water pump: No
Software configuration:
User's guide: ECS 3000
Version: 96.204.10U1
Floppy drive: 3.5"
Double cassette loading: Yes.
VARIAN 3290溅射设备是一种先进的多元件沉积工具，用于制造薄膜。系统的核心是磁控管溅射元件，它采用磁屏蔽阴极，线圈同心排列。这在阴极表面附近产生了一个强磁场，将电子的发射引向溅射目标，允许一个非常均匀，往往是高产的沉积过程。该装置配备了几种能够沉积不同物质的部件和特性。例如，阴极的形状可以用一个可调节的配置平台进行调整，以创建一个优化的沉积半径。此外，可以将溅射目标材料编程为优化，以达到最大的粘结效率，甚至针对特定的应用需求进行定制。3290配备了薄膜高速率沉积的三个主要部件。第一种是双磁控管溅射炮，提供两个高效率的沉积区。第二个是感应线圈，防止电弧，连接到电源，在溅射前加热溅射目标。最后，第三个成分是一个腔室筛选机制来控制腔室内的离子，提高沉积速率。VARIAN 3290利用了一个计算机试点接口，便于控制和定制机器。这样可以精确控制压力、频率、电压和温度,从而使用户能够优化沉积过程。此外,高级诊断子系统可以检测某些电气或机械故障并立即向用户发出警报。总体而言，3290是一种功能强大的多用途溅射工具，旨在沉积高产量的薄膜。其可变配置平台、双磁控管枪、独特的腔室筛选机构、精确的计算机-飞行员界面，使其成为各种溅射应用的理想选择。
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