二手 VARIAN 3290 #9236340 待售

VARIAN 3290 Sputter Equipment是一种在各种基板上沉积金属、介电或绝缘材料薄膜的设备。这最常用于半导体工业中的精密薄膜涂层应用、硬盘驱动器生产、电子组装以及其他微制造工艺。3290溅射系统是一种单室高真空沉积装置，能够在极低过程离子污染的超高真空环境中沉积薄膜。它采用Cel Chamber技术（惰性气体溅射）设计，有助于保持稳定和高的沉积速率。这台机器有八个Cel Chamber源，最多可容纳十二个物质目标。它具有广泛的工艺室选择，包括冷冻泵送、旋转基板和硅步进器，用于精确的均匀膜沉积和晶圆对准。该工具具有数字化过程控制和数据记录功能，用户可以精确监控沉积参数并记录数据以供后续分析。这有助于确保薄膜沉积过程的可重复性和准确性。此外，该资产还配备了集成过程控制模型，可用于监测关键过程参数，如真空压力、沉积速率和温度。VARIAN 3290还配备了可选的污染监控器，提供了工艺气体线、工艺压力、基板地形和通量均匀性等沉积条件的实时反馈。其他选项包括用于内部或外部气体供应的多条气管线和一个可编程汽化源（PVS）室。综上所述，3290 Sputter Equipment是一种高真空沉积系统，设计用于半导体行业的精密薄膜涂层应用。它配备了数字化过程控制单元和数据记录，以确保薄膜沉积过程的重复性和准确性。它能够在极低工艺离子污染的超高真空环境中沉积多种不同材料的薄膜。此外，它还配备了一个综合污染监测仪和各种功能，如冷冻泵送、旋转基板和PVS腔室。所有这些特性使得VARIAN 3290成为薄膜沉积的理想选择。