二手 VARIAN 3290 #9236362 待售

VARIAN 3290是一种工业溅射设备，用于将薄膜沉积到各种基板上。该系统可以沉积一系列薄膜材料，包括金属、氧化物、半导体和绝缘体。它配有一个封闭的大型溅射目标，大小和形状不同，通常由需要沉积的材料组成。它具有磁控管溅射阴极，具有单靶或多靶溅射能力和行星运动能力，用于旋转和索引目标溅射技术。溅射阴极由真空室、目标基板和磁控管源组成，用于气体电离。真空室允许气体被引入腔室，目标基板充当溅射过程的顶面。磁控管源在腔内产生高真空，确保气体分子和负离子能够不受阻碍地通过腔内。这种溅射装置还采用超高真空机，以达到最佳性能并防止污染。刀具有一个三轴机械手，用于放置用于溅射的基板支架，可以配置为允许均匀覆盖、高速、圆形或偏移圆周运动。它还具有可编程的前后比控制溅射侵蚀和特征控制。可变可编程表提供多达三个预定义的控制区域，允许用户自定义基板和溅射沉积模式的材料。一个感应耦合等离子体源也被纳入资产中，以获得额外的多功能性，从而实现精度。为保证均匀性，3290采用三维粒度监控器，控制粒度形状和粒度。此外，该模型使用石英晶体厚度监测器进行精确的沉积控制和光学发射光谱以及质谱法进行过程控制。总体而言,VARIAN 3290是一种高级设备,具有高性能,可在各种基板上精确溅射薄膜。这为客户提供了一个高效有效的基板沉积解决方桉，从而实现最大精度和控制。