二手 VARIAN 3290 #9238015 待售

VARIAN 3290是一种溅射设备，可以利用磁增强反应性溅射（MERS）或反应性离子束蚀刻（RIBE）技术生产薄膜材料。该系统能够生产各种材料，如金属、电介质、氧化物、半导体和薄膜。这种溅射装置旨在为各种用途的这些材料的沉积提供更好的均匀性和可重复性。3290是一种三源溅射机，提供高离子电流（>200mA），与传统溅射源相比，可提高沉积速率。该工具包括一个强大和高效的双冷阴极源，这使得各种材料的高速率沉积。这种阴极角沉积（CAD）溅射源设计用于在大表面积上沉积高纯度、薄薄且均匀的材料层。该资产还具有高性能电磁多目标溅射源，能够沉积高度复杂的分层结构，具有极好的均匀性和可重复性。溅射模型利用先进的真空设备进行高效、一致的沉积操作。VARIAN 3290采用了先进的技术，确保了卓越的真空性能，包括射频和直流泵送系统、带有单独安装的离子计和水喷射泵的再生涡轮泵，以及用于连续无表面活性剂基板的广谱吸气泵。3290还提供了材料沉积速率和均匀性方面的工艺能力和灵活性。VARIAN 3290采用了强大的源系统,使其能够以比传统技术更大的均匀性沉积各种材料的薄层。该装置能够承受室温至350°C、平均沉积功率高达10 W/cm2的基板温度，为许多材料提供了高度灵活的工艺。3290机也是金属和电介质直接沉积的理想选择。除直流/射频溅射外，该工具还能进行反应性溅射、化学气相沉积（CVD）和化学反应性离子束蚀刻（RIBE）。该资产提供了多种辅助工艺能力，如旋转目标、偏置溅射和表面处理，如MERSTEC。VARIAN 3290的先进特性和功能使其成为各种薄膜沉积应用和工艺的理想选择。VARIAM 3290具有较高的沉积速率、均匀性和工艺灵活性，是生产薄膜材料的高效模型。