二手 VARIAN Chamber for M 2000 #293661352 待售

VARIAN Chamber for M 2000是为薄膜沉积应用而设计的溅射设备。它是一种研发级沉积系统，能够在大面积沉积，具有较高的一致性和均匀性。该装置非常适合沉积金属、电介质和有机物等多种材料。M 2000的腔室具有两个6英寸x 6英寸晶圆转盘和两个8英寸x 8英寸晶圆转盘，由直观的用户界面控制。该机采用传统阴极工具和屏蔽阴极机构，以确保最优均匀性和可重复性。晶圆转盘的设计是为了确保在溅射操作过程中晶圆的精确对准和平行。此外，资产还具有灵活的晶圆真空源端口，可用于在溅射操作中引入气源。VARIAN Chamber for M 2000还包括一个独特的SubSystem 2000控制柜，旨在最大限度地提高模型的性能和效用。设备包括一个软件包,允许从外部PC远程访问和控制系统。此软件还提供高级诊断和设备实用程序。M 2000的腔室利用精密的旋转机械快门在晶片表面提供均匀的沉积速率，而不需要额外的保护面罩。该机还具有充分的氮气净化能力，能够快速高效的清洗过程。此外,该工具还具有干蚀刻选项,以及用于高效质量控制过程的高分辨率接缝检测功能。VARIAN Chamber for M 2000还包括一个具有精确控制和监控能力的高输出射频电源。它还提供了广泛的溅射离子源，用于呈现各种薄膜。最后还包括了双面沉积、可调压力检测仪、增强安全性和高效操作的丙烯酸安全窗口等多种其他特点。总之，M 2000室是一种先进的研发级溅射设备，设计用于高保真度、高可重复性的薄膜高效沉积。该型号还提供了许多附加功能,如SubSystem 2000控制机柜、精密旋转机械快门和高输出射频电源,以确保最佳性能。