二手 VARIAN E17045261 #9126495 待售

VARIAN E17045261是一种适用于薄膜沉积应用的高性能溅射设备。该系统是阴极辅助溅射技术,可提供先进的薄膜均匀性、低能耗和改进的操作寿命,从而获得最佳性能。E17045261是一种单源双磁控管溅射装置，利用高效、低功率的光源有效地将薄膜沉积在基板上。这台机器配备了先进的多口袋源组件，允许材料从多个源同时沉积到沉积室中。多源的使用消除了从一个源到另一个源的污染，从而控制了膜在基板上的沉积厚度。多口袋源还在整个基板上提供了高度的工艺均匀性。该工具旨在通过高级控制源/catode IC和温度控制来优化生产产量,帮助确保薄膜性能的准确性,并减少停机时间或运营成本。通过控制电源功率、电流、电压和温度,VARIAN E17045261高效地沉积具有完美膜均匀性和出色的阶梯覆盖率的薄膜,从而获得优异的机电性能。资产还包括一个溅射辅助室，它允许对硅基薄膜的生长进行更多的控制。这种溅射辅助腔室特性有助于控制生长中的Si膜的氧化，从而更有效地利用材料。此外，溅射辅助室减少了对过量SiSiO2前体的需求，从而在整个沉积过程中产生了高度可重现的增长率。E17045261是薄膜沉积应用的绝佳选择，因为它结合了先进的工艺控制和高效的基板覆盖以及较低的操作成本。该模型还在材料节约和工艺均匀性方面提供了显着的优势，提供了即使是复杂特征的有效沉积和更快的沉积周期，从而提高了吞吐量并降低了成本。这种设备的控制信心增强，确保了薄膜的沉积精度近乎完美，机电性能极佳。