二手 VARIAN E47000454 #9126496 待售

VARIAN E47000454是为一般沉积应用而设计的高性能溅射设备。它能够在各种沉积参数上以高速率将薄膜沉积在基板上。该系统使用感应耦合的氙等离子体源，产生高度均匀且可再现的溅射膜。它具有直径7英寸、位置4的旋转溅射目标，允许多种材料溅射。该装置的专用射频驱动溅射离子源提供了一种有效的方法来在基板上沉积各种成分的薄膜。E47000454溅射机有一个大的4英寸溅射室，带有一个高流量气体控制工具，可以精确控制薄膜的物理参数。它还具有温度控制的基板加热板，用于膜在不同温度下的保形沉积。该资产与各种各样的真空测量装置兼容，使用户能够测量溅射室内的压力。该模型有一个可编程逻辑控制器（PLC），方便设备的控制，允许精确和均匀的沉积和材料使用。VARIAN E47000454具有坚固、节能的电源,最大沉积速率可达5nm/min,而特殊的感应耦合溅射源可确保整个基板上的沉积物均匀。此外，它还具有直流溅射的直流电源，可以沉积低腐蚀特性的薄膜。该系统的另一个优点是通过集成软件控制过程参数。该控制单元可以复制先前的实验并实现可重复的沉积结果。E47000454溅射机具有良好的均匀性、高沉积率和多功能性。它非常适合各种行业，包括半导体、数据存储、太阳能、医疗和航空航天。它具有众多的优点，是薄膜沉积的一个极好的、具有成本效益的解决方桉。