二手 VARIAN M 2000 #9277462 待售

VARIAN M 2000是为极致的工艺灵活性而设计的溅射设备。它是一种高性能系统，非常适合加工包括硬质和软质材料、金属薄膜、金属、电介质和低k电介质在内的多种基材。VARIAN M 2 000具有一系列流程功能和支持选项。它配有一个3位载荷锁，能够将样品预排至200 °C，并配有一个高速率溅射阴极，能够以高达950nm/min的高速率沉积。溅射工艺可根据特定的预期结果进行调整，并可针对特定工艺（如钛或铬氧化物的抗氧化涂层沉积）优化单元操作参数。M 2000还配有内置基板加热冷却机，在加工过程中提供对基板温度的统一控制，每个腔室最多可容纳四个目标基板。它还包括一个脉冲等离子体沉积工具，它允许广泛的工艺选择，包括薄膜的快速溅射和掺杂过程中的均匀杂质控制。资产与最先进的过程控制模型集成在一起，以确保可重复和可靠的性能。软件用户界面直观，允许用户轻松设置和保存流程参数，监控设备性能，分析结果。该系统还支持与PC控制系统以及外部仪器和机器人控制器的多个通信接口。M2 000还设计为易于灵活安装,其紧凑设计可与现有设施和系统集成。它易于携带,体积小,非常适合在高生产环境中运行。此外,它的封闭式机柜允许清洁、安全的操作,而机柜的设计可最大限度地减少维护和减少停机时间。总体而言，VARIAN M 2000是一个功能强大的溅射装置，为薄膜沉积、溅射、蚀刻和其他相关处理等应用提供了理想的平台。它提供了广泛的参数来优化流程,并确保可靠和可重复的结果。其直观的用户界面和过程控制机器提供了用户友好的体验，而其紧凑的尺寸和可移植性使其易于在任何环境中安装和操作。