二手 VARIAN / NOVELLUS M2000 #188108 待售

VARIAN/NOVELLUS M2000是一种高性能溅射设备，设计用于在先进的半导体应用中沉积薄膜。该系统由三个不同的模块组成--溅射室、脉冲等离子枪和硬件平台。溅射室是VARIAN M2000单元的心脏，用于离子轰击和薄膜沉积在晶片上。该室配有两个工艺室，最多可容纳五个独立目标，最大正常运行时间。该腔室利用具有可变电压、频率和功率水平的高性能DC/RF双磁控管溅射源进行沉积和蚀刻。本机在溅射操作中提供出色的均匀性、稳定性和一致性。脉冲等离子体枪是允许离子轰击和低温等离子体清洗的附加模块。该工具能够溅射蚀刻、表面清洁、活化和化学蚀刻，而不会影响薄膜厚度或微观结构。此外，脉冲等离子体喷枪适用于低端气体流量的闭环控制，提高过程的重复性和重复性。硬件平台在NOVELLUS M 2000资产的性能和效率方面起着不可或缺的作用。该平台为不同的流程配置提供模块化设计,并为高级流程技术提供可扩展性。M2000提供了一种基于PC的高性能控件模型,该模型具有方便用户的界面,可用于过程监控和数据收集。此外,该平台还支持用于流程参数优化、工具集成、故障诊断和产量/流程优化的自定义设计软件。总体而言,VARIAN/NOVELLUS M 2000是一种先进的基于DC/RF的溅射设备,旨在确保卓越的薄膜沉积质量、均匀性和吞吐量。该系统为先进的半导体器件制造和生产提供了卓越的工艺重复性。