二手 VARIAN / NOVELLUS M2i #9106398 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9106398
晶圆大小: 6"
Sputtering system, 6"
(1) Etch target
(4) Sputtering targets
A2- Etch w/ Comdel CPS1001 RF power supply
A3- Cobalt w/ Varian Multi Range DC Power Supply 3-12kW
A4 - Ti/TTN w/Varian Multi Range DC Power Supply 6-24kW
A5 - Al w/ Varian Multi Range DC Power Supply 3-12kW
A6 -Ti/TTN w/Varian Multi Range DC Power Supply 3-12kW
(4) CTI Cryogenics 9600 Compressors
Neslab Coolflow System IV 230V 3 phase
Infincon CIS TS100 RGA units on A2-A6 and transfer
Missing sputtering target assemblies
ACE Version
Quantum targets
Degas modules
1995 vintage.
VARIAN/NOVELLUS M2i是一种高端溅射设备,可为高产量、厚膜沉积应用提供强大的性能。VARIAN M2i能够沉积各种薄膜，包括导体、电介质和金属氧化物。它专为大批量生产而设计，低拥有成本使其成为那些希望在实验室或生产设施中增加溅射能力的人的一个有吸引力的选择。NOVELLUS M2i配备了2英寸磁控管溅射系统，允许浅层和深层接近沉积过程。它具有一个双输出的单源单元，提供高达6 kW的可供薄膜沉积的功率。该源的设计目的是提供一个一致的沉积水平，即使沉积环境发生变化。该机器还设计用于高沉积速率，提供大约16-20纳米/分钟的速率。M2i能够产生对薄膜的地形、覆盖范围和均匀性进行精确控制的厚膜层。它非常可靠，而且该工具的软件设计方便操作和维护。资产可以手动或自动模式操作，为用户提供高度的灵活性。此外，VARIAN/NOVELLUS M2i还配备了应急发电机，以保护材料不受任何意外事件的影响。VARIAN M2i对于那些希望生产出具有可靠、可重复结果的厚膜层的人来说是一个非常宝贵的工具。NOVELLUS的强大性能加上低拥有成本,M2i任何实验室或生产设施都是一个极具吸引力的选择。
还没有评论