二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-830 #293595641 待售

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MB2-830
ID: 293595641
晶圆大小: 8"
Sputtering system, 8".
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-830是一种高性能溅射设备,设计用于先进的薄膜器件研究和加工。该系统具有直接阴极溅射结构,可高效生产薄膜层,并具有广泛的材料兼容性。TEL MB2-830具有低磁场目标配置和先进的平面磁控管溅射工艺.该单元可用于在各种基板上创建薄膜层,其高效的溅射工艺允许高质量的薄膜沉积和均匀性。该机配备了功能强大、用途广泛的离子源,以及先进的离子束监测和计量控制能力。变频电源可根据所需的目标材料和涂层要求量身定制,为用户沉积薄膜提供必要的灵活性。VARIAN MB2-830还有一个先进的冷却解决方桉,确保稳定的温度操作和优秀的膜均匀性和附着力。其基于直流的溅射工艺消除了可能造成薄膜缺陷的离子"浸"侵蚀。该工具与广泛的基材类型兼容,从硅到玻璃,可用于产生纳米级的薄膜沉积。MB2-830包括高性能、RF驱动的控制资产。这保证了薄膜沉积的稳定性,改进了工艺控制和良好的模型吞吐量。该设备还设有一个综合加热装置,用于产生高质量薄膜沉积所需的基板温度。该系统包括彩色液晶显示器,方便用户界面和操作。TOKYO ELECTRON MB2-830与众多真空泵兼容,允许最佳运行条件。该设备还提供远程访问功能,允许用户从任何位置控制溅射过程。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MB2-830是一种先进的溅射机器,旨在确保薄膜层在各种底物上的高效和均匀沉积。其直接阴极溅射构型和众多等离子体监测、计量、控制能力保证了优质的薄膜沉积,具有极好的均匀性。该工具非常适合薄膜研究和先进的沉积处理。
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