二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274344 待售

VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一种精密的溅射设备，设计用于各种半导体、医疗和工业应用。它提供了一种可靠、高效的方法来将一系列薄膜沉积在基板上。溅射系统由具有集成组件的双室真空外壳组成，为将各种薄膜精确地沉积到包括平板显示器、光学设备、磁性材料、半导体存储芯片和薄膜晶体管（TFT）在内的组件上提供了受控环境。TEL MBB 830包括一个低能离子源，它在大面积上提供高沉积速率并产生最小的热负荷。该单元提供低压等离子体源，以促进更高的溅射率，降低运营成本，在大面积上更大的均匀性。其精确控制的"直接写入"电子束机枪的设计保证了大面积薄膜厚度的极佳均匀性。VARIAN MBB 830还将定制设计的计算机工具与主机PC和遥控软件结合在一起，提供对沉积过程的灵活控制。该资产能够通过其基于射频磁控管溅射技术沉积各种材料，如氧化物、氮化物、碳化物、硅化物和合金，既有反应性气体，也有惰性气体。这种基于溅射的沉积方法保持了基材的稳定性，还可以实现各种形状和尺寸的超高纯度薄膜层。TOKYO ELECTRON MBB 830设计用于批量生产运行，提供可重复、高质量的工艺结果。它还能够在几乎任何尺寸的基板上实现高通量（最大450 x 400mm）,并且是精密多层薄膜沉积的极好的旋转和倾斜轴运动源。MBB 830包括在线分光光度计、温度控制机器人取样模型、电子束枪点监测器、内部光学计量设备、透镜视频显微镜等全方位的过程监测解决方桉。这些解决方桉为用户提供了无与伦比的薄膜效果控制,使他们能够随时间推移保持高质量的性能。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830提供高精度、可靠的薄膜沉积能力以及极大的质量保证和过程控制，使其成为要求苛刻的沉积应用的理想选择。