二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274362 待售

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830
ID: 9274362
晶圆大小: 8"
优质的: 1995
Sputtering system, 8" CTI-CRYOGENICS OB-8 (3) Chambers TiN 1995 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一种强大的溅射设备,能够执行热流和直流磁控管溅射沉积过程。这套通用系统非常适合一系列应用,包括生产光学活性太赫兹薄膜、金属和半导体薄膜、高端光学元件涂层以及电气元件。TEL MBB 830的设计确保了安全可靠的操作。其中包括一个独特的陶瓷安全壳容器,可与或不与氟化碳源容器一起使用,以保护和控制溅射过程。为了获得最佳安全,该单元包括多种安全功能。VARIAN MBB 830配备了紧急停止/重置按钮、外壳互锁、温度感应装置和超压释放阀。MBB 830采用标准的"负载锁定"溅射室,带有视口和12位晶片卡带。这种设计非常适合大规模的薄膜沉积以及小规模的研发目的。此外,TOKYO ELECTRON MBB 830能够与非反应性(如Al和Si)和反应性(如氧化物)溅射气体一起工作,以达到最大的薄膜精度和均匀性。该机器还配备了先进的、用户友好的控制控制台。这有助于用户对其沉积作业进行编程,并允许他们实时监控进度。控制台配有一个有源封装,允许晶圆转移、腔室压力自动化以及增加反应性气体,以提高沉积精度和重复性。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830还包括多种工艺工具和材料,以取得优异的沉积效果。这包括一个机械动力进给器、一个低温后退火室和一个高温烘焙室,所有这些都可以针对特定的项目需求定制定制。此外,该工具还能够使用许多溅射源,如平面源、旋转源和线性源。简而言之,TEL MBB 830是一款可靠、灵活的溅射资产,配备了多种安全功能和工艺工具,可实现最大精度和重复性。它非常适合各种应用,从大型光学活性胶片制作到小型研发项目。
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