二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830 #9274368 待售

VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB 830
ID: 9274368
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Sputtering system, 8" CTI-CRYOGENICS OB-8 (3) Chambers TiN 2000 vintage.
VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一款高度先进的溅射设备,适用于薄膜、研发、半导体/电子行业的多种应用。它是专为在玻璃、硅、光刻抗蚀剂、塑料等基板上沉积超薄膜而设计的。TEL MBB 830利用多用途、多目标、多源溅射系统来实现比传统溅射系统快十倍的沉积速率。这样可以实现高效的胶片增长和无与伦比的质量。VARIAN MBB 830具有集成式真空密封室,利用低压惰性气体环境最大限度地减少敌对环境的影响。这允许安全、稳定和一致的溅射过程控制。此外,该单元还有一系列精心设计的控制器和配件,方便用户使用。TOKYO ELECTRON MBB 830的超高精度平台也允许其进行复杂的操作,如多层薄膜生长,并包括防静电底板以确保最小静电荷积聚。该机还允许广泛的溅射目标材料,如金属、合金和氧化物,可用于生产从几纳米到几百纳米厚的薄膜。MBB 830还具有自动调整和优化功能,允许用户通过简单地改变溅射速率、温度或压力来定制薄膜的材料成分。此外,该工具还具有高功率、超低噪声磁控管,能够对薄膜厚度和组成进行特殊控制,并具有反馈机制,使资产能够不断监测和调整沉积参数。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB 830是一款易于使用的型号,具有直观的控制设备以及车载数据采集和分析工具。这使用户能够准确、快速地调整胶片参数,达到理想的效果。总体而言,TEL MBB 830是薄膜沉积的重要工具,适用于薄膜、研发和半导体/电子行业的众多应用。VARIAN MBB 830凭借其集成、通用的溅射系统、多目标、多源系统、自动调节优化技术以及广泛的兼容材料和工艺参数,提供了无与伦比的性能、耐用性和易用性。这使得TOKYO ELECTRON MBB 830成为任何实验室或工厂的关键部件。
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