二手 VARIAN / TEL / TOKYO ELECTRON MBB #293600880 待售

TEL （VARIAN/VARTOKYO ELECTRON） VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON MBB （Magnetron Sputter Deposition Equipment）是一种高性能、计算机控制的溅射沉积系统，用于在玻璃、金属、塑料等多种基板上沉积薄膜。该单元设计用于沉积金属、半导体和其他精度最高的材料，该机器由电磁加速溅射源、真空室和控制台组成。溅射源具有特殊的磁控管设计，确保涂层沉积速率均匀，满足半导体芯片组的均匀性要求。此外，溅射源设计用于沉积金属、半导体等材料，精度最高。该工具还具有单一的头部闭环设计，以实现完美的涂层覆盖。真空室配有温度控制资产，确保工艺温度稳定均匀，提供更好的工艺控制和改进基板制备。该模型还包括一个气体流量控制设备，以提供最佳的溅射气体供应，以及一个气体净化系统，以去除从单元腐蚀性气体。控制台交互性很强，允许用户轻松地监控和控制溅射过程。通过使用图形用户界面，操作员可以监控和调整压力、涂层材料、目标温度、功率和溅射等工艺参数。VARIAN/TEL/TOKYO ELECTRON/VARTEL MBB溅射沉淀机设计用于生产和研究环境。其先进的特性使其成为在任何基板上沉积薄膜的理想选择，从研发应用中的细腻玻璃基板到工业用途的大型基板。其独特的磁控管设计确保了均匀的沉积速率，提供了卓越的覆盖范围，并确保了一个一致的金属膜。此外，它的温度控制工具确保了一个可重复、准确和稳定的沉积过程。该资产操作简单，性能一致，是薄膜沉积的理想选择。