二手 VCR GROUP IBS / TM200S #9246303 待售
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ID: 9246303
Ion Beam Sputtering (IBS) system
With 200 I/s turbo-molecular pump
Ion-beam gun
Quartz crystal thickness monitor
4-Position target carrier
Liquid nitrogen cold trap
Argon gas flow: 5-10 psi, 1.5 sccm, 99.999 % pure
Nitrogen gas flow: Turbo molecular pump bleed
Water flow: 30 GPH, clean water
Electrical:
Interlocked to prevent high voltage shock
110 VAC, 50/60 Hz, 15 Amps.
VCR GROUP IBS/ TM200S是一种溅射设备，主要用于薄膜的物理气相沉积。它在薄膜沉积过程中利用离子轰击的威力，使得它特别适合于PVD（物理气相沉积）技术。IBS/ TM200S由9轴运动控制系统操作，能够创建从单向到极性反向溅射的各种溅射过程。溅射过程利用高压电源和阴极（目标）以及屏蔽阴极来控制等离子体并创建所需的沉积厚度剖面。当用离子束轰击目标时，就会启动溅射过程。这种轰击加热目标表面，蒸发原子，然后以均匀、无方向的光束向与溅射室接触的基板加速。当高能原子向底物移动时，它会遇到一个屏蔽层，部分地反射高能原子，并允许沉积的膜在所需位置形成。通过控制目标材料的蒸发速率，可以调节薄膜的厚度。VCR GROUP IBS/ TM200S是专门为提高沉积厚度、均匀性和膜在大基板上的均匀性而设计的。除了溅射，IBS/ TM200S能够控制晶片的运输。它使用自动晶片传输单元来控制晶片的插入和从溅射室中提取。该机作为终端效应器，是确保样品安全的重要安全特性。VCR GROUP IBS/ TM200S还配备了负载锁定工具、闭环厚度控制资产和自动启动模型等功能。所有这些特性结合在一起，使IBS/ TM200S成为物理气相沉积应用的理想选择。
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