二手 VEECO Spector #9004435 待售
看起来这件物品已经卖了。检查下面的类似产品或与我们联系,我们经验丰富的团队将为您找到它。
单击可缩放
已售出
ID: 9004435
Parts System
Ion Source 16cm
Body: OK
Grids w/ quartz: NG
Cables: OK
Power supplies: NG (can be prepared with additional cost)
RFN: Only feedthrough (w/ matching box)
Ion Source 12cm
Body: OK
Grids w/ quartz: NG
Cables: OK
Power supplies: NG (can be prepared with additional cost)
RFN: Only feedthrough (w/ matching box)
ITAVS: NG, it has been removed so the system does not work well
GFC1100: NG
OMS: OK
PC's: OK (Unfortunately cannot be tested without ITAVS
Motor Driver: NG
Targets w/ Backing plates: NG
Target Motion control: OK
High Speed Substrate fixture: OK
Touch screen on the display monitor: NG
Display Monitor: For control: NG, For OMS: OK
MFC: OK
Manuals: OK.
VEECO/DEKTAK Spector是一种溅射设备,专为光子学、光电子学、医学植入物开发、量子器件研究等领域的应用而设计。这个系统允许金属、绝缘体和半导体的薄膜沉积在基板上发展出纳米级结构。VEECO Spector模型是VEECO系列中的最新版本,它提供了以前在溅射系统中不可用的特性和功能。DEKTAK Spector有四个独立的溅射室,每个室都有各自的工艺控制和沉积参数。这些腔室由一个独立的等离子体源提供动力,允许对硬磁材料进行高效和可重复的溅射。Spector还有一个先进的溅射电极单元,在距离和角度控制方面都具有高度柔性的调节。这使研究人员能够在广泛的参数范围内调整溅射材料的总能量通量和速度。此外,VEECO/DEKTAK Spector的底物级保护机器可确保沉积的薄膜在处理过程中不受污染。VEECO Spector的一个关键特点是其双磁场源配置。这实质上意味着用两个极性交替的磁体来控制溅射过程。这提供了对参数范围的更精确的控制,允许均匀和可重复的沉积。此外,这一工具还减少了离子与目标和基板表面碰撞造成的附带损害,让研究人员创造出更耐用的纳米级结构。DEKTAK Spector还拥有最先进的腔室设计和控制资产。这使研究人员能够在溅射过程中精确控制所有参数,例如压力、温度和时间。此外,Spector有一个内置的参数优化模型,可以自动调整参数以最大化过程效率。这样就更容易排除沉积过程中的任何问题。最后,VEECO/DEKTAK Spector是一种先进的溅射设备,提供以前无法使用的特性和功能。其双磁场等离子体源、精确控制参数和参数优化系统为研究人员提供了对沉积过程极为精确的控制。这使研究人员能够为需要极高性能和极高耐用性的各种应用开发纳米级结构和组件。
还没有评论