二手 ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep #293812078 待售

ID: 293812078
Milling, grinding, and polishing system Specialized CNC-based machine for electrical and physical failure analysis (EFA/PFA) X and Y axis: 1 µm resolution, 100 x 100 mm stage travel Z-axis: Closed-loop design, 0.1 µm resolution, 1 µm accuracy Dual-axis tilt control, 0.5 µm resolution Three modes of Z-axis control: Position, Position Force, and Floating Force Variable spindle RPM: 5,000 – 100,000 Pneumatic tool change 12" color touchscreen High definition (720p) live video.
ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep是一款用途广泛、先进的晶圆研磨、研磨、抛光设备,设计用于半导体、电子和材料科学行业的各种材料的精密加工。此尖端系统提供了一系列功能,可实现晶圆加工、设备制造和材料表征等关键应用所需的最佳表面光洁度和平整度。X-Prep装置配有高速旋转压板,能够在研磨和研磨过程中高效去除物料。这种压板由强大的电动机驱动,可以进行控制,以达到精确的速度和旋转方向,使材料在晶圆表面均匀去除。机器还具有可编程控制界面,允许用户设置压力、速度和时间等特定参数进行自动化操作和可重现结果。在晶片研磨方面,联合高科技产品X-Prep工具利用磨料研磨轮或金刚石研磨盘从晶片表面去除材料。这些磨削工具有各种砂砾尺寸,以适应不同的材料硬度和表面粗糙度要求。该资产采用水基冷却剂输送模式,以确保在研磨过程中有效散热和清除碎屑,这有助于防止热损坏并保持一致的研磨性能。在研磨模式下,X-Prep设备采用涂有精细磨料浆料的扁平研磨板,在晶片上达到高精度的平整度和表面光洁度。研磨过程涉及晶片在受控压力下对研磨板的旋转运动,允许材料去除和表面细化。该系统配有精密压力控制单元,使用户能够设置并维持所需的压力水平,以获得最佳的研磨性能。ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep机的抛光能力是通过使用软抛光垫和抛光化合物来实现的,这有助于在晶圆上达到镜面表面光洁度和亚微米水平的平坦度。该工具采用双运动抛光头,可在抛光过程中实现旋转和轨道运动,确保整个晶片表面均匀去除材料并进行表面细化。此外,资产还配备了可编程抛光参数控制模型,允许用户调整压力、速度和抛光时间等变量,以定制抛光结果。总体而言,X-Prep设备是晶圆研磨、研磨和抛光应用的最先进解决方桉,为实现高性能半导体和材料科学应用所需的精确材料去除、表面光洁度和平坦度提供了先进的功能。ALLIED HIGH TECH PRODUCTS X-Prep系统具有强大的设计、先进的控制功能和多用途的操作模式,为用户提供了满足现代晶圆加工和材料表征过程要求所需的灵活性和精确度。
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