二手 ALPSITEC MECAPOL E550 #9240664 待售
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ID: 9240664
晶圆大小: 6"
CMP System, 6"
Rack:
Wafer diameter: < 200 mm
Rotation speed: 15-150 RPM
Rear pressure: 0-100 kPa
Polishing force: 0-3000 N (14 psi on 8")
Horizontal displacement: Adjustable amplitude
Main load tray:
Diameter: 550 mm
Rotation speed: 15-150 RPM
Temperature: 10°C - 60°C
Secondary tray:
Diameter: 350 mm
Rotation speed: 20-200 RPM
Conditioner:
Force: 10-300 N
Diameter: 100mm, 238 mm
Rotation speed: 10-70 RPM
Final conditioner:
Linear brush: 22 mm x 100 mm
Facilities:
Pressurized air: 6-7 bars
Head motor: 0.75 kW
Engine tray: 2.2 kW
Conditioner engine: 0.37 kW
Consumption:
Water-DI: 200 L/hr
Pressurized air: 220 L/min
Electricity: 5 kW
Air gap: Internal pump
Power: 220-380 V, 50-60 Hz, 3 Phase.
ALPSITEC MECAPOL E550是一种先进的晶片研磨、研磨和抛光设备,其设计目的是生产高质量、高产量、表面光洁度较高的晶片。该系统具有获得专利的"自对准"垂直研磨原理,设计用于处理高达250 mm的大型晶片,平均粗糙度（RA）为0.5 μ m,表面平整度为10 μ m。MECAPOL E550提供了一系列高效的硅研磨和研磨技术,具有三个独立的研磨主轴,可实现高精度和可重复的研磨结果。ALPSITEC MECAPOL E550配备了一个监控单元,以确保高效、安全的运行。该机设计用于批量或全自动处理，能够实现晶片的自动化装卸。该工具还装有二维自动对焦摄像机，能够精确测量和调整研磨参数。此外,该E550与所有流行的高速系统兼容,允许无缝集成到现有的生产过程中。MECAPOL E550还可以配备数字液晶触摸屏，方便设置和调整机器参数和配方加载。该资产还具有内置零件计数器和节气门传感器,用于监控每批的研磨时间和输出。安装了高精度隔振模型，以尽量减少过度振动和扰动造成误差的可能性。ALPSITEC MECAPOL E550提供高质量、高产的晶片,表面光洁度极佳.该设备采用先进的研磨、研磨和抛光技术,可加工高达250 mm的大型晶片,具有0.5 μ m的RA和高达10 μ m的表面平坦度。该系统还配备了故障安全监控系统和用户友好的液晶触摸屏控件，便于操作和设置。MECAPOL E550具有高效的生产率和可靠的重复效果，是磨削、研磨和抛光大晶片的理想解决方桉。
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