二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CMP 5201 #9030286 待售

ID: 9030286
优质的: 2000
CMP system Mirra 3400 AS 2000 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CMP 5201晶圆研磨、研磨和抛光设备旨在为各种半导体晶圆的研磨和抛光提供精确、经济高效的解决方桉。该系统具有高达每小时200个晶圆的卓越吞吐量,并利用高度复杂的工艺控制单元。磨削和抛光过程是完全自动化的,并且从头到尾都受到全面监控。机器由前端工艺室、支撑工具和控制单元组成。前端腔室容纳研磨和抛光部件,并确保保持精确的压力和温度条件以获得最佳效果。支撑资产提供了光滑均匀的光洁度所必需的一致研磨和抛光表面。AMAT CMP 5201配备了先进、精确的过程控制技术,可在多个晶圆应用中提供一致的可重复结果。该模型具有先进的设备-晶片接口以及自动缺陷识别和故障分析功能。此外,该系统还包括集成的基板冷却技术,可确保晶片在整个研磨和抛光过程中保持在安全的工作温度内。APPLIED MATERIALS CMP 5201能够处理标准晶片和特种晶片,结果一致,符合高端质量保证标准。该单元提供了一个五轴晶圆运动平台,允许对精加工过程进行非凡的灵活性和控制。该机集成了多种研磨和抛光耗材,使操作员能够根据需要调整和定制工艺。CMP 5201已被证明是半导体晶片精密高效研磨抛光的可靠、经济高效的解决方桉。该工具适用于各种规模的操作,其设计目的是确保简化维护,并增强流程的鲁棒性和生产率。该资产经过了多位行业领先专家的测试和认证,并得到了全面保修的支持。
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