二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak #9181837 待售

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AMAT / APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak
已售出
ID: 9181837
CMP System.
AMAT/APPLIED MATERIALS Mirra Ontrak是一种晶圆研磨、研磨和抛光设备,设计用于各种晶圆。该系统由高精度金刚石磨头、精密研磨头和抛光头组成。每个磁头都安装在由PC控制的精密电动主轴上。研磨头被编程为研磨半导体工艺中使用的硅、的、石英等典型材料。研磨头用于在晶圆材料上产生非常光滑的表面。抛光头用于在晶圆材料上产生抛光表面。AMAT Mirra Ontrak机组设计用于对任何半导体材料执行完整范围的晶圆研磨操作。它配有用于控制晶片边缘位置的先进晶片卡盘、用于定位卡盘头的机械台以及用于控制刀具旋转速度的主轴。这台机器设计用于处理单个和多个晶片格式。该工具还设计用于精确测量表面地形,以便对研磨过程进行精确控制。磨头的设计目的是生产高精度、高精度的磨削表面。它配备了可用于各种研磨作业的高精度金刚石轮。它还有一个防尘罩,防止灰尘和其他颗粒被吹到晶圆上。它配备了真空资产,用于收集研磨过程产生的灰尘和颗粒。研磨头设计用于在晶圆材料上产生高度精确的平坦表面。它配备了两个安装在高精度电动主轴上的研磨板。它还配备了一个压力调节器,可以用来调节两个研磨板之间的压力。压力可以调整,以确保磨料颗粒在晶圆的整个表面高度精确均匀分布。抛光头设计用于在晶圆材料上产生高度抛光的表面。它使用高精度的抛光轮来产生高度抛光的表面。车轮由PC控制的电动主轴驱动。它还配备了头部压力调节器,以帮助实现车轮和晶圆之间的精确压力。该模型设计方便和精确的材料处理。它配有一个晶片装载设备,可以用来将晶片材料提升和放置到卡盘头上。系统还具有冷却和清洁功能,可用于在晶片处理过程中冷却和清洁晶片。该单元可以处理单个和多个晶圆格式。最后,应用材料Mirra Ontrak是一种晶圆研磨、研磨和抛光机,能够在多种晶圆材料上产生高精度表面。该工具配备了可调节的头部压力调节器和真空系统等先进功能,确保了准确高效的研磨、研磨和抛光工艺。
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