二手 AMAT / APPLIED MATERIALS Reflexion 3600 #9379444 待售
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ID: 9379444
晶圆大小: 12"
优质的: 2003
CMP System, 12"
(3) Load ports
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
(3) Platens, 30"
Maximum speed: 133 RPM
Pad conditioner, 4"
3 Type DDF, 30-120 RPM
Slurry line: Maximum 400 ml/min
Torque end point system
(4) Heads:
Membrane press head: 3 Zones 0-15 psi
Spindle speed: Maximum 200 RPM
Cleaner 1:
Megasonic cleaner
With (2) rollers and idler
DIW Flow: 2.01 / min
Temprature controller: 20° - 50°
Wafer rotation speed: 6 RPM
Power: 950 kHz, 600 W
Cleaner 2:
(2) Brushes
With (3) rollers and idler
Brush rotation speed: Maximum 700 RPM
Wafer rotation speed: Maximum 50 RPM
DIW delivery: 2000 ml/min
NH4OH: 2000 ml/min
Brush rinse:
DIW: 1000 - 4000 ml/min
Cleaner 3:
(2) Brushes
With (3) rollers and idler
Brush rotation speed: Maximum 700 RPM
Wafer rotation speed: Maximum 50 RPM
DIW Delivery: 2000 ml/min
FPM: 2000 ml/min
Brush rinse:
DIW: 1000 - 4000 ml/min
Dryer:
Spin rinse dryer
Maximum speed: 2500 RPM
Infrared ramp heater: 1000 W
2003 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Reflexion 3600是一种先进的晶圆研磨、研磨和抛光设备,旨在在整个晶圆生产过程中提供精确、快速和一致的结果。该系统非常适合半导体和MEMS制造,在从金属到陶瓷再到玻璃的各种基板上都具有强大的性能和多功能性。3600具有四个独立的研磨/研磨位置,使其能够一次处理多达四个基板,从而实现快速高效的生产。AMAT Reflexion 3600的负载部分支持容量为8英寸的200 mm晶圆。负载部分完全封装在不锈钢外壳中,以实现最大的安全性和性能。可调节的装载和定位台可以容纳直径在4到11英寸之间的基板。负载部分还包括高级传感器和软件,可实现精确的基板对准并防止误载。APPLICED MATERIALS Reflexion 3600还具有高分辨率光学观察单元和X 轴/Y轴运动机器,可容纳各种基板尺寸和形状。一个集成的分体架工具被设计为能够精确放置基板。3600的研磨/研磨过程由先进且高度精确的伺服控制资产提供动力。这使操作员可以设定精确且可重复的进料速率、磨轮速度和金刚石轮速度，以达到最佳效果。该车型还配备了先进的安全设备，以保证操作员的安全。Reflexion 3600提供多种升级选项。可为特定的研磨、研磨和抛光应用安装定制控制器。它还兼容了广泛的定制磨轮、金刚石轮、平圈式配置。3600还包括功能强大的软件套件,可方便安装、自动化和过程监控。综上所述,AMAT/APPLIED MATERIALS Reflexion 3600是一种高度先进的晶圆研磨、研磨和抛光系统,可提供精确一致的结果。此单元具有多种高级功能和选项,可容纳各种基板和应用程序。该机器设计为提供快速、高效、经济高效的生产工艺。
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