二手 EBARA 300e #9195909 待售

EBARA 300e
製造商
EBARA
模型
300e
ID: 9195909
CMP System.
EBARA 300 e晶圆研磨研磨抛光系统是为满足半导体市场苛刻需求而设计的精密机床。300 e是一台强大高效的机器,提供最高水平的质量和成本效益。在机器的核心是磨削,研磨和抛光头有三个综合工艺阶段。这三个阶段的流程允许高效和高效的工作流程。研磨阶段采用金刚石涂层研磨轮进行精密研磨,达到表面粗糙度,减小粒径。研磨阶段使用磨料浆料将晶片表面打圈。最后,抛光阶段使用金刚石垫来实现镜面般的抛光饰面。具有数控多功能功能的研磨、研磨和抛光系统易于使用。操作员界面直观,允许高流程控制和灵活性。该机器提供可调节的速度、压力、旋转和电平,能够处理各种晶圆尺寸,最大可达300毫米。EBARA 300 e为安全而设计,符合CE认证标准。所有的操作和维护信息都在用户手册中提供,并且该机适合于自动闭环操作。300 e是一种可靠的精密设备,在晶圆研磨、研磨和抛光等方面具有优异的性能。该机由优质材料和部件组成,提供卓越的工艺控制和效率。EBARA 300 e为现代半导体制造的挑战提供了经济高效的解决方桉。
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