二手 EBARA EPO-113 #293760238 待售

EBARA EPO-113是一种高性能晶片研磨、研磨和抛光设备，设计用于单晶片和多晶片加工。该系统基于安装在电机驱动主轴上的磨头、抛光布轮和流体供应单元。该电动机是一种坚固的交流驱动电动机，由PLC机控制，可以精确控制主轴转速。磨头具有独特的夹紧机构，以确保晶片牢固地夹在头部。抛光布轮安装在伺服电机上，可以根据工艺的不同调整到所需的压力和速度。布轮也可以45°的增量调节，以确保达到所需的抛光效果。流体供应工具旨在确保向布轮提供一致的冷却剂，以防止晶圆在研磨和抛光过程中过热。该资产配有各种传感器和工艺监测器，有助于确保晶片的质量。研磨机装有视频模型，可用于在研磨和抛光过程中检查晶片。设备还配备了光学显微镜，可用于测量晶圆表面的平整度和粗糙度。此外，系统还配备了数字控制器和读数，使得研磨和抛光参数的设置更加容易。该单元设计用于处理单个和多个晶片。单晶片工艺可以使用旋转主轴进行，而多晶片工艺则涉及广泛的研磨、研磨和抛光操作，从而确保所需的晶片平坦度、表面光洁度和尺寸。多晶片工艺分两个主要阶段进行：预清洗和研磨/研磨/抛光。预清洁工艺用于去除晶片表面的灰尘和污垢，而研磨/研磨/抛光工艺则用于将晶片抛光至所需的表面光洁度和平坦度。综上所述，EBARA EPO 113是一种高性能晶圆研磨、研磨抛光机，专为单晶圆和多晶圆加工而设计。它具有坚固的交流驱动电机、可调抛光布轮、流体供应工具以及一系列传感器和过程监视器,以确保获得最佳处理效果。