二手 EBARA EPO-113 #293825809 待售

EBARA EPO-113晶片研磨、研磨和抛光设备为各种应用提供了强大而精确的晶片研磨、研磨和抛光功能。它能够以高达15,000 rpm的速度处理直径达8英寸的单面或双面晶片,提供卓越的精度和可重复性。EBARA EPO 113的流线型机器设计消除了复杂性,同时确保了可靠性和准确性。它具有从粘合金刚石和磨盘到树脂和抛光毛毡的各种精密磨料产品。它还有一个三轴线性电动机系统，用于独立控制晶圆载体、磨头和抛光台，分辨率为0.01微米，可重复性为0.5微米。EPO-113也非常灵活，通过简单交换头部和桌子，能够在几秒钟内从磨削转换为抛光。用于研磨定位的晶片位置和抛光台在控制器中预设,确保切换后所有参数保持不变。带有彩色图形显示的直观用户友好型12英寸液晶控制面板允许简单控制晶圆研磨和抛光过程。工艺参数，如速度、压力和磨料类型，很容易调节，而工艺可以手动控制或通过配方单元编程。该机器还采用RFID技术,可以自动检测晶粒大小、类型和切割.这进一步使研磨和抛光过程自动化,并确保一致的结果.最后，操作员和附近人员的安全至关重要。EPO 113设计了一系列安全功能，包括直观的主动安全互锁机和LED指示灯，高压容器隔离功能，以及集尘和颗粒处理的集尘通风口。