二手 EBARA EPO-113 #293825810 待售

EBARA EPO-113
ID: 293825810
CMP System Normal head Oxide CMP Host station Renesas upside +8K/m tool.
EBARA EPO-113是一种自动晶圆研磨、研磨和抛光设备,旨在提供精确、一致和可重复的抛光结果。该系统可以处理直径达6英寸的各种晶片,效率和精度都很高。EBARA EPO 113建立在刚性减振框架上,包含集成的低噪声真空单元。这台机器允许精确,可重复应用和去除各种研磨,研磨和抛光介质。精确的运动控制和精确的运动轮廓由三个高精度的无刷伺服电动机驱动在两个独立的门架上,结构刚性,耐腐蚀。EPO-113晶圆研磨、研磨和抛光工具提供了许多用户可控制的参数。这包括进料和旋转电动机的速度、施加和去除研磨和抛光介质的压力循环以及整个循环时间。机电设备还可以进行精确和可重复的研磨、研磨和抛光工艺,以及精确的晶圆定位,确保应用和去除过程的机械-化学对准。EPO 113型的运行环境是为了方便设备的高效运行而设计的。这包括有氮供应的清洁环境,以及温度和湿度控制。还提供了广泛的配件,包括冷却系统、气体调节器、安全罩和样品芯片,允许对抛光过程进行全面控制。系统的高级控制算法允许直观的编程和操作单元.这台自动化机器可以与许多其他系统连接,包括PC、网络或控制器。位于前面板的交互式显示屏允许进一步控制用户。EBARA EPO-113晶片研磨、研磨和抛光工具是一种用于抛光各种晶片的完整、自动化的解决方桉。精确的运动控制、机电资产和先进的控制算法提供了可靠的精密抛光结果。用户可控制的参数设置、直观的编程和接口以及广泛的附件增加了模型全面的功能。
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