二手 EBARA EPO-113 #9219031 待售

EBARA EPO-113
ID: 9219031
Oxide CMP system.
EBARA EPO-113是一种先进的多功能晶圆研磨、研磨和抛光设备.它设计用于在具有不同要求的晶片上生产各种平坦、完美的表面。EBARA EPO 113将能力、精度和可靠性结合到一个系统中。EPO-113有两个独立的载流子,每个载流子都有四个3轴数控研磨主轴和两个载流子。3轴主轴可以编程为在各种处理中产生均匀而精确的结果。两个载波能够以不同的功能独立操作,使机器能够单通进行多层磨削、研磨和抛光,这样可以节省时间,提高精度和生产力。EPO 113装有开槽表面板,用于晶片的安全定位,使整个单元的精度得到提高。该工具采用包括密封外壳和真空回收系统在内的空气净化装置,以防止灰尘污染。EBARA EPO-113具有高分辨率的数字显示监视器,可直观确认过程参数,提供良好的控制和可追踪性。资产是模块化的,可以根据客户的特定需求进行配置,从而可以拆分模型,以便于运输和存储。EBARA EPO 113配备了先进的Sicoya控制软件,使用方便,直观。它使用户能够轻松地编程和控制多个过程,从而实现精确的晶圆处理。该软件还允许数据记录和晶圆工艺参数的可追踪性,这对于晶圆加工的质量管理很有用。作为晶圆级抛光机,EPO-113为晶圆加工提供了出色的解决方桉。其高精度的加工结果提高了产品质量和产量。其3轴设备在一次加工中执行多个处理步骤的能力大大缩短了晶圆加工的周期时间和成本。EPO 113系统旨在提供满足精确要求的高质量平面。
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