二手 EBARA EPO-222 #293760236 待售

由EBARA Technologies开发的EBARA EPO-222是生产精密半导体晶片的先进晶圆研磨、研磨、抛光设备。它具有几个特点，使其在晶圆上达到小于纳米的表面精度是高效和可靠的。该系统有一个大的温度控制研磨室，防止温度引起的金属磨损和晶圆的破损。冷却装置有助于显着降低热梯度，同时保持室内温度的控制。该机还有一个双轴精密主轴，具有适用于研磨、研磨、抛光晶片的转速范围。压板和晶片之间的可调压力允许保证均匀结果所需的完美压力。EBARA EPO222晶圆研磨抛光机具有坚固的设计、不锈钢元件和可处理大量晶圆的带有馈线的自动装载机。它还配备了一个自动化抛光装置，不仅具有一系列抛光循环，而且能够动态调整抛光参数以适应正在加工的晶片。EPO 222工具是为在洁净室环境中使用而设计的，其循环空气资产最大程度地减少了灰尘污染。此外，该模型还拥有先进的除尘和过滤系统，以及一系列安全功能，如紧急关闭和温度监测。最重要的是，该设备还配备了集成相机系统接口，可自动测量和定位晶片以及跟踪晶片处理操作。此外,专有晶圆测量模块（PMM）可确保晶圆测量精度和可追踪性。凭借其强大的设计、先进的功能和精确的测量,EPO222是一个功能强大的单元,旨在满足生产和研究环境中的最高要求。无论是精磨、研磨还是抛光，EPO-222都是一次又一次生产高精度、高可靠性半导体晶片的完美工具。