二手 EBARA EPO-222 #293775096 待售

EBARA EPO-222
ID: 293775096
CMP System.
EBARA EPO-222是一种自动晶圆研磨、研磨和抛光系统,与传统的手动研磨和抛光方法相比,可为要求最苛刻的应用提供卓越的效果。该系统由一个主研磨/抛光台、一个主电机和驱动单元、两个分开的上下研磨/圈级、一个静态抛光台以及一个抛光膜应用和拆卸站组成。所有这些组件结合在一起,使系统紧凑、经济高效且用户友好,同时提供出色的效果。EBARA EPO222的主研磨/抛光台设计为一次最多可容纳六个晶片,并具有可调的速度设置,允许用户以不同的速度研磨和抛光多个晶片。主电机驱动具有较高的扭矩,允许一致的研磨和抛光压力,每次均匀一致的结果。上下两个分开的研磨/圈级可以处理任何形状的晶片或基板表面,并且可以精确调整以获得可重复的结果。这种灵活性允许精确调整研磨角度、距离和压力,以确保完美抛光,而不管表面的复杂性如何。EPO 222的静态抛光级设计为沿整个晶圆表面或基板材料均匀施加特定的压力,确保空隙自由表面。纸张应用和去除站用于去除基板上的残留物,同时处理平面和曲面。EPO-222易于使用,并且需要极少的努力来设置,使其成为任何精密研磨、研磨和抛光应用的绝佳选择。桌子的振动作用模拟抛光了整个晶片表面,而且足够柔和,甚至可以处理最精致的材料。能够以可重复的结果抛光大量晶片,EPO222是任何晶片相关生产工艺的绝佳选择。
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