二手 EBARA EPO-222 #293775099 待售

EBARA EPO-222
ID: 293775099
CMP System.
EBARA EPO-222是一种多用途晶圆研磨、研磨和抛光设备,用于制造级硅和复合半导体材料。该系统是为了最大限度的通用性和便利性而设计的,确保了高端晶片和基板的高效生产。该单元允许快速的表面研磨和抛光,以及晶圆边缘的研磨和去毛刺。这台最先进的机器具有真空晶片支架、坚固的直径200毫米的板和可调节的工作速度,可进行全面的穿透磨削。该工具还包含一个嵌入式加热器和自动温度控制,用于工件的精确和均匀加热。可调速度可定制至5,000至10,000 rpm的范围,允许最佳研磨和抛光效果。此外,扫描定心和旋转定位机构确保制造晶片的精度。EBARA EPO222的外轮和内轮是按照最高的质量和规格制造的,使其具有较长的工作寿命。此外,砂轮是固定的,并通过灵活的锁定机构固定在资产的外壳上。磨轮还具有基于EC的控制模型和位置误差检测装置,有助于消除转动磨轮时的任何误差。EPO 222的研磨和去毛刺工具具有可变移动速度、快速轴调整和伺服控制驱动器,可在处理过程中精确移动和保持一致性。此外,研磨刀具可以在旋转和线性运动模式下操作,以有效地去除材料。此外,该设备还配备了先进的除尘室,以减少研磨过程中空气中的灰尘,从而创造一个安全的环境。此外,安全功能还包括保护性扫描仪、近距离开关和应急开关等,并配有安全联锁装置,以防止不必要的事故。EPO222也是高效率的,拥有令人印象深刻的仅仅是3KW的能耗。该系统是各种半导体材料精密加工的理想选择。
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