二手 EBARA EPO-222 #293816528 待售

EBARA EPO-222
ID: 293816528
晶圆大小: 6"
Chemical Mechanical Polishing (CMP) system, 6".
EBARA EPO-222是一种晶圆研磨、研磨和抛光设备,为半导体和其他精细元件的最终精密加工提供了一种低成本的解决方桉。该系统的设计目的是在包括金属、陶瓷、玻璃和塑料在内的多种材料上产生高精度的研磨、研磨和抛光效果。EBARA EPO222采用单碟研磨抛光工艺,能够在所有零件上产生亚微米光洁度,无论大小或形状。这一单元拥有丰富的功能,能够多功能性,高精度的表面光洁度和各种抛光水平。它具有电动旋转台、精密控制和可重复性,对0.1微米至3mm各种厚度的材料进行均匀钝化和平面化。电动旋转表提供了晶片的精确和可重复的旋转,从而能够在单个操作中处理大量零件。该机使用精密的切割刀片进行抛光,可以单次加工大型样品,以及非标准形状,以及平坦和弯曲的表面。变速控制可确保光洁度和平行性公差的结果一致。微米可调节轴承在抛光过程中支撑晶片以获得可重复的结果。该工具还具有全自动的板式更换资产,可用于高效的板式更换。主轴驱动安全模型和自动卸载设备降低了受伤风险,提高了效率。该系统可适应不同的自动化配置,经济高效地使用,同时保持高度的精确度和可靠性。该单元配备了一大堆精密而又人性化的功能,如密码控制、多步生产节约、最多5步研磨序列控制、预设预磨、超精密研磨、自动操作记录等。这些功能不仅可以节省时间,还可以提高性能和质量。此外,该机设计环保。封闭式研磨室可确保操作过程中没有污染物释放到大气中。EPO 222为高精度研磨、研磨和抛光需求提供了理想的解决方桉。
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