二手 EBARA EPO-222 #9083271 待售

EBARA EPO-222
ID: 9083271
CMP System.
EBARA EPO-222是一种先进的晶圆研磨、研磨和抛光设备,旨在满足日益增长的先进半导体操作需求。该系统采用先进的研磨算法,在小直径晶片上以每小时500晶片的速度产生高精度的单晶表面。EBARA EPO222单元设计为多功能性,具有多种积极的研磨和抛光选项,可提供精确的高速研磨,确保晶圆表面光洁度的精确高质量效果。它能够在同一个框架上容纳各种各样的磨床和抛光机,从而能够在一台机器上安装和管理高效的工艺切换和多个磨床/抛光机。EPO 222的简单构造确保了简单的安装、操作和维护。机器装有15英寸彩色触摸屏,用于控制流程参数和监控进度。整个过程不断监控,任何需要调整的研磨、研磨和抛光参数都可以轻松快速地完成,同时保持最高效果。EPO222的研磨/研磨头由无刷直流电动机提供动力,确保精确的精度和恒定的速度。先进的主轴轴承工具可保持刚度和刚度,而运动控制技术可确保精确的同心度。该资产还包含高精度刻度,分辨率为0.0001 mm,用于精确厚度控制。EPO-222还配备了连接视觉、缺陷检测、并行检测等先进技术。交界视觉模型自动测量和监测交界深度和形状,以确保最佳性能。缺陷检测设备可实时检测、定位和分类晶片表面的所有异常,如凹坑、颗粒和变形,防止出现质量问题和缺陷。并行检测系统对每个晶片进行自动对准,确保批次之间的均匀性。EBARA EPO 222是一种强大可靠的晶圆研磨、研磨和抛光装置,可用于各种生产需求。凭借其先进的功能和技术,该机器能够提供精确、高质量的结果,并提供最少的维护和停机时间。
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