二手 EBARA EPO-222 #9159058 待售

EBARA EPO-222
ID: 9159058
晶圆大小: 8"
CMP Systems, 8".
EBARA EPO-222是一种先进的晶圆研磨、研磨和抛光设备。本机设计用于半导体等材料基板的精密高效加工。它非常适合用于研究和开发以及用于生产目的。该系统由一系列安装在轨道上的阶段组成,每个阶段都设计用于执行过程中的特定任务。第一阶段是研磨。研磨阶段利用陶瓷砂轮将基材减小到所需的尺寸和形状。最大可减小0.22 μ m。第二阶段是研磨。它使用金刚石磨料进一步细化基板表面,提供了高精度和可重复性。第三个也是最后一个阶段是抛光,利用一系列液体和浆料抛光工艺将基板表面提炼成镜面。EBARA EPO222还配备了多种传感器和软件来自动化和优化过程。该装置配有一个自动调制装置,为每个工序分配所需数量的化学品。此外,它还包括OPC(光学过程控制)技术,该技术使过程自动化,并通过实时图形分析提供有关进度的反馈。机器的配置高度可定制,可以适应各种基材和任务。其最大基板尺寸容量为4英寸(100毫米),并采用了一系列可消毒的研磨、研磨和抛光工具。它也与广泛的磨料兼容。利用所有这些功能,EPO 222是一个功能强大且非常精确的工具,每次都会产生完美的结果。
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