二手 EBARA EPO-222 #9203984 待售

EBARA EPO-222
ID: 9203984
晶圆大小: 8"
优质的: 1996
CMP Systems, 8" 1996 vintage.
EBARA EPO-222晶圆研磨、研磨和抛光设备旨在协助生产具有超光滑表面的半导体晶圆。该系统包含一个磨床、两个圆柱形磨石、一个润滑单元、两个抛光头和一个过滤单元。磨床是一个大的、耐用的、精密加工的零件,由铸铁或不锈钢制成。它提供了一个平坦均匀的表面,晶圆在其上工作,磨石在其上移动。磨石由特殊的金刚石颗粒制成,能够生产出超光滑的表面。润滑机在磨石和晶片上注入一层薄薄的油膜,防止磨石和晶片在磨削过程中相互移动时出现评分和损坏。可以调整该工具以保持一定范围的粘度,从而允许设置中的灵活性,以优化性能。抛光头的下力臂将晶片固定在研磨台上,同时给抛光布加压。他们沿着桌子向上和向下移动晶片,在抛光布上抚摸着晶片的表面,它消除了小颗粒和缺陷。过滤单元设计用于捕获抛光过程产生的颗粒并从资产中移除,从而确保颗粒不会污染晶圆表面。过滤器还通过减少颗粒物污染的体积来帮助持续的模型操作,从而最大限度地减少对频繁设备维护的需要。总体而言,EBARA EPO222晶片研磨、研磨和抛光系统的实施为生产具有超光滑表面的半导体晶片提供了一种符合半导体行业严格标准的经济高效可靠的方法。
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