二手 EBARA EPO-222 #9203985 待售

EBARA EPO-222是由EBARA Corporation设计制造的用于半导体工业中使用的晶片精密抛光的双空间晶片研磨、研磨和抛光设备。该机利用各种研磨、研磨和抛光操作，在晶圆两侧产生优越的光洁度，使其适合广泛的工艺中使用，包括制造LED、激光和MEM等先进元件。EBARA EPO222系统由双工作室组成,使操作员能够在同一单元内运行两个不同的并发进程。该机配备了高性能主轴、研磨盘和膝板，确保了扁平和圆形零件生产的最大精度。磨削和抛光工艺采用先进的技术，包括精确的压力控制，以确保高度的均匀性和可重复性，使操作员能够生产出具有精确表面光洁度和可重复性的零件。EPO 222机还配有自动化视觉工具，能够以0.001毫米的精度测量零件。这使资产能够准确检测和纠正偏移、圆度和半径误差,从而加快高质量零件的生产速度。此外，机器还配备了安全监控模型，使操作员能够监控过程的状态并确保过程环境的安全。设备提供0到999 RPM的可调速度，以及0到25 kgs之间的可调磨轮压力，使操作员能够准确地适应每个工艺所需的条件。另外，机器有一个内置的自检系统，保证了安全可靠的操作，其自动程序功能使操作员能够轻松地对生产过程进行编程。总而言之，EPO222为高质量晶片的生产提供了操作精度、准确性和灵活性。