二手 EBARA EPO-2228 #293658079 待售

EBARA EPO-2228
ID: 293658079
CMP System.
EBARA EPO-2228是一种最先进的晶圆研磨、研磨和抛光设备,旨在提供生产环境中优越的表面精加工。该系统能够在单面和双面晶片上产生高精度、细公差的表面。该单元包括一台高效研磨研磨机,以及一个精密抛光头的应用最终完成。磨床具有垂直取向的台面和内置的磨轮;它能够产生高精度和可重复性的平坦地面。研磨机装有两块扁平、独立控制的研磨板;这样可以确保在晶片上形成完全平行的平坦表面。机器的抛光头能够提供高度抛光的表面光洁度;头部安装在旋转台上,以便在整个晶片上进行精细抛光。强大的真空工具确保有效去除抛光残留物。整个资产由定制软件驱动,允许完全自动化和精确的研磨、研磨和抛光循环。该模型提供的自动化水平无与伦比;该设备能够自动检测表面缺陷和气泡,以确保完美的结果。EBARA EPO2228旨在以最小的人工干预提供最大的生产率。该系统的窄轮廓非常适合集成到现有生产线中,其效率和可靠性使其成为各种晶圆精加工应用的理想选择。该装置有望在晶圆表面光洁度方面提供卓越的效果,最快的速度和最小的人为干扰。
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