二手 EBARA EPO-222A #293622939 待售

EBARA EPO-222A
ID: 293622939
CMP System.
EBARA EPO-222A是一种晶圆研磨、研磨和抛光设备,用于在所有类型的半导体晶圆中生产高精度表面,如硅、氮化零(GaN)和石英。其先进的研磨、研磨和抛光技术利用动态控制来确保优化的表面质量,从而提高产量和工艺效率。该系统旨在在晶圆上创建高精度的镜像曲面。采用砂轮磨削技术,采用基板研磨、晶圆非接触抛光和双羊毛抛光两步磨削工艺。该机组的研磨机装有空心滚筒式头,设计用于将材料统一输送到车轮的外围边缘,从而在表面产生均匀的研磨。此外,研磨主轴运行在高转速提供高度均匀和可重复的表面。重载抛光机提供所需的压力和可控滑移,以保证均匀的物料去除率。EBARA EPO 222A配备了操作和控制各种过程的计算机工具,允许根据需要进行调整以产生高精度曲面。其用户友好的触摸屏监视器;设计还可以方便操作。此外,还设计了一个自动调整功能,可优化磨削压力和间歇时间,从而最大限度地减少浪费并缩短维护时间。此外,此资产是为可靠性和可持续性而构建的,并带有用于紧急故障或维护的备份组件。EPO 222 A包括9个衬里、10个磨料轮和13个研磨板。它具有集成的安全功能,例如低压警告模型。它还包含一个收集尘埃的设备,通过捕获任何空气中的尘埃颗粒来改善工作环境。总之,EBARA EPO 222 A是一种非常精确和坚固的晶片研磨、研磨和抛光系统,对于在许多半导体晶片中生产高精度表面至关重要。其精密的研磨、研磨和抛光技术、集成的安全功能和用户友好的设计可提高效率、生产力和成本节约。
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