二手 EBARA EPO-222D #293669538 待售

ID: 293669538
优质的: 2000
CMP System 2000 vintage.
EBARA EPO-222D是一种高精度、多功能的晶圆研磨、研磨和抛光设备。它经过精密设计,在半导体晶片的研磨、研磨和抛光方面达到尽可能高的精度和可靠性水平。将先进的真空加工技术与极其高效稳定的超精密加工相结合,EPO-222D提供了最高水平的性能。EBARA EPO-222D具有强大的研磨主轴,输出功率为180 W。该主轴能够研磨直径达200 mm的硅半导体晶片,速度高达30,000 rpm。主轴具有用于显示速度控制的显示控制旋转。主轴还允许根据预期工艺的需要选择车轮更换或变频。EPO-222D还包括真空卡盘和高精度平板研磨台。卡盘表具有精密加工的表面,可实现均匀、可重复的研磨和研磨过程。真空卡盘也可以在不需要额外缓冲或扁平机构的情况下研磨扁平硅片。研磨台设计用于在晶片上提供超光滑光滑的表面饰面。EBARA EPO-222D还具有先进的控制系统,可对磨削工艺参数(如深度、速度和表面质量)进行精确控制和自动测量。该单元还允许用户在研磨和研磨过程中将晶片氧化和热损伤的风险降至最低。此外,EPO-222D还配备了令人印象深刻的除尘机,可以帮助保护抛光工具和工作环境免受灰尘颗粒的侵蚀。通过使用专用过滤器和强大的风扇使除尘工具变得高效。此外,创新的除尘器设计用于将石粉粉尘与晶圆颗粒和轻质塑料粉尘分离,从而防止出尘。EBARA EPO-222D是一种强大而可靠的晶圆研磨、研磨和抛光资产,旨在对各种半导体材料和尺寸进行高质量的研磨。EPO-222D具有先进的技术和高效稳定的研磨主轴,能够在短时间内提供极其精确的结果。结合优越的控制模式和先进的除尘设备,EBARA EPO-222D是任何晶圆研磨、研磨和抛光需求的理想选择。
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