二手 EBARA EPO-222T #9398270 待售

EBARA EPO-222T
ID: 9398270
晶圆大小: 12"
优质的: 2004
CMP System, 12" 2004 vintage.
EBARA EPO-222T是一种先进的超精密研磨、研磨和抛光设备,设计用于半导体行业。它能够生产具有纳米精度的超光滑表面,其速度比传统的研磨和抛光系统快五倍。该系统高度自动化,具有集成的晶片装载器和卸载器,以及一系列高级图像处理功能,使其成为生产精确度和可靠性极高的高质量晶片的理想选择。该装置采用电抛光和机械磨损技术。用一个旋转的克鲁斯固定晶片研磨研磨,磨料介质直接送入研磨室,与少量水溷合,精确分配到晶片表面。仪器随后进行电抛光,利用电流和磨料介质从晶圆表面快速去除材料。该机的集成图像处理功能通过对晶片表面进行抛光监测,确保对磨削、研磨和抛光过程进行微观控制。图像处理工具甚至能够检测晶圆表面上最小的缺陷和不规则性,从而使用户能够根据需要进行校正以产生所需的光洁度。EBARA EPO222T还具有多种自动化的安全功能,例如能够检测腔室过度填充和存在异物。它采用化学机械抛光和传统的研磨抛光方法进行操作,是企业追求最高精度和精确度的理想选择。总体而言,EPO 222T是一种强大而可靠的晶圆研磨、研磨和抛光设备,能够生产出具有纳米精度的非常光滑和均匀的表面。其集成的自动化和高级成像处理功能使其成为要求在短时间内获得高精度曲面的企业的绝佳选择。
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